研究設備
2. 測定設備
2.1 SQUID
磁化率を測定（2 K - 400 K）する装置で、光照射による磁化率や圧力下での磁化率測定も行うことができます。その他にSQUIDキャビティー内で誘電測定や電導度測定なども行うことができます。
2.2 誘電率測定装置
15Kから500Kまでの温度領域で比誘電率を測定できます。また磁場下での測定も可能であり、さらに光照射も行うことができます。
2.3 強誘電テスター
強誘電体のP-E測定を行うことができます。測定温度領域は15Kから500Kまでです。
2.4 メスバウアー分光装置
57Coの放射線源を用いて57Feのメスバウアースペクトルを測定します。解析ソフトはMossWinを用いて簡便に解析可能です。
振動の少ないクライオスタットと組み合わせることで20 Kから300Kまでの温度領域でメスバウアースペクトルを測定することもできます。光照射も可能です。また手製のヒーターと組み合わせて400Kまで高温側のスペクトルも測定することができます。
電磁石と組み合わせることができるようになり、1Tまでの磁場下でメスバウアースペクトルを測定することもできるようになりました。
2.5 偏光顕微鏡
偏光顕微鏡は液晶の光学模様などを観測するときに使います。-180℃から300℃の温度範囲で温度を上げ下げしながら観察することができます。
2.6 SHG測定装置
二次非線形光学効果を簡易に測定することができます。
2.7 クライオスタット
ヘリウム吹付のクライオスタットで、光学窓をサファイヤにすることで、3.5Kから600Kまでの温度領域で分光測定や電気化学測定を行うことができます。
2.8 コロナ放電印加装置
サンプルの温度を温度を室温から上昇させながら、10000ボルトの高電圧をサンプルに印加することができます。
2.9 PXRD用の高温用サンプルホルダ−
室温から高温側の温度領域においてパウダーXRDパターンを測定するときに使います。手製の自信作です。
2.10 スピンコーター
サンプルを基板上に薄膜化するときに使います。簡単に薄膜ができるのでとっても便利です。
2.11 ナノ秒パルスレーザー
ナノ秒オーダーの1064nmと532nmをスイッチ一つで簡単に出すことができます。
2.12 半導体レーザー各種
半導体レーザーは各種取り揃えています。532nm、800nm、808nm、980nmのレーザーがあり、光照射するときに用います。
2.13 光源各種
光源として超高圧水銀灯とキセノンランプをそろえています。バンドカットフィルターと組み合わせて波長依存性などを調べるときに用いたり、紫外照射する際にも用います。